Wet Processing
HF-kompatible Wafer-/Chip-Halter
Entwickelt und hergestellt für den Einsatz mit den Kritisch-Punkt-Trocknern von Tousimis, verwenden viele Kunden diese Wafer-...
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Ersatzteile Nassprozesse
Beschreibung für Ersatzteile Nassprozesse
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Slurrypumpe-SL20
Der Champion SL20 wurde speziell für chemische Schleifflüssigkeiten entwickelt. Der Zweck dieser Pumpe war es, unseren...
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110 Hochreine Chemische Pumpe
Das Modell 110 ist seit über 15 Jahren auf dem Markt und erweist sich als Industriestandard...
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Mega120 Hochreine chemische Pumpe
Da die Anforderungen an den Prozessfluss in mehreren Branchen stiegen, begannen unsere Kunden, nach einer Pumpe...
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Magnum610 hochreine chemische Pumpe
Die Magnum 610 wurde mit Hilfe von Endanwendern entwickelt, um den Anforderungen beim Fördern von Chemikalien...
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Magnum620 Hochreine chemische Pumpe
Die Magnum 620 ist die Weiterentwicklung der 610, wobei das Hauptmerkmal die gänzlich metallfreie Konstruktion ist....
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Maxim 50 Hochreine chemische Pumpe
Die Maxim 50 ist aufgrund ihrer Zuverlässigkeit und Regelbarkeit unsere am weitesten verbreitete Pumpe in den...
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MEGA960 Hochreine Chemische Pumpe
Die Mega 960 ist der Standard für Anwendungen bei denen über einen langen Zeitraum hohe Volumenströme...
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PurusCP Hochreine chemische Pumpe
In vielen Branchen zeigte sich, dass hochreine AODD-Pumpen vermehrt für anspruchsvolle Einzelanwendungen benötigt werden. Mit Hilfe...
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ReV6 Magnetlevitationspumpe
Die Rev6 ist die ideale Pumpe für Slurry-Anwendungen und solche, bei denen ein gleichmäßiger, laminarer Förderstrom...
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Inline-Chemieheizung
Inline Chemie-Heizer mit patentiertem Dünnschicht-Heizelement
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T-Serie 25
Die luftbetriebenen Doppelmembran-Chemiepumpen der T-Serie von Trebor eignen sich hervorragend für das Fördern von aggressiven Medien....
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