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e3612 Plasmaveraschungsanlage für einzelne Wafer
Zwei Kammern mit 2 Kassettenstationen und Doppelarm-Roboter Asher.
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weiteres Equipment
Beschreibung für weiteres Equipmen tHalbleiter/MEMS
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e3611 Single Wafer Plasma Ashing System
Single chamber with 2 cassette stations and single-arm robot Asher.
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Gemini Multi-Chamber Stripper
Die Gemini ist ein kompaktes Mehrkammer-Abisoliersystem mit hohem Durchsatz, das speziell für die Anforderungen heutiger Produktionsfabs...
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Sirus T2 Table Top RIE
Der Sirus T2 Reactive Ion Etcher ist ein einfaches Table Top Plasmaätzsystem zum Ätzen von Dielektrika...
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Minilock - Phantom RIE
Das Minilock – Phantom RIE ist ein Reactive Ion Etch System mit einem Vakuum Loadlock. Der...
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Titan Loadlocked RIE mit VCE
Der Titan ist ein sehr kompaktes, vollautomatisiertes, vakuumlastverriegeltes Plasmasystem für die Halbleiterproduktion. Verfügbar in den folgenden...
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Apollo Stripper
Die Kosten für neue Abisoliersysteme sind auf ein unangemessenes Niveau gestiegen. Trion hat dieses kritische Problem...
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DXB 880 Series Wafer-Bonder
Temporary Wafer Bonder mit einer 279mm Durchmesser Kammergrösse und aktive Kühlung
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