Deposition, Etching
Oracle Cluster CVD RIE System
Das Oracle ist das kleinste und flexibelste vollständige Produktionsclustersystem auf dem Markt. Das System besteht aus...
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Beschichtung
S3 Alliance bietet fortschrittliche Beschichtungsanlagen für PECVD, ALD und Ultraschall-Sprühtechnik, die auf Ihre speziellen Bedürfnisse zugeschnitten sind.
Profitieren Sie von unserem Know-how, unserer Zuverlässigkeit und unseren innovativen Lösungen für Ihre Beschichtungsprozesse.
Deposition
Orion PECVD
Das Orion Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System produziert Produktionsqualitätsfolien auf einer kompakten Plattform. Das einzigartige...
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Deposition
Spin Coater ACE-200
Kompakter Spin-Belacker für Proben und Wafer bis 150mm. Komfortable Bedienung.
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Deposition
Spin Coater TOP-8
Kompakter Spin-Belacker für Proben und Wafer bis 200mm. Komfortable Bedienung
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Deposition
PRISM-400 BT (Benchtop) Ultraschall-Sprühbeschich...
PRISM-400 Benchtop Ultraschall-Sprühbeschichtungssystem. X-Y-Z Sprühbeschichtungssystem with USI’s proprietary nozzle-less ultrasonic spray head, für den Labormaßstab und...
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Deposition
USI PV360 Ultrasonic Spray Coating System
Der PV-360 ist ein leistungsfähiges Inline-Spray-Coating-System für die Applikation von dünnen und gleichmäßige Schicken von Dotierstoffen...
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Deposition
PRISM-500 Ultraschall-Sprühbeschichtungssystem
Der PRISM-500 ist eine leistungsstarke X-Y-Z-Bewegungs- und Positionierungsplattform, die für das Aufbringen einer Vielzahl von Beschichtungen...
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Deposition
PRISM-800 Ultrasonic Spray Coating System
Der PRISM-800 ist eine leistungsstarke X-Y-Z-Bewegungs- und Positionierungsplattform, die für das Aufbringen einer Vielzahl von Beschichtungen...
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Deposition
PRISM-1200 Ultraschall-Sprühbeschichtungssystem
Das PRISM-1200 ist ein hochschnelles, leistungsstarkes Sprühbeschichtungswerkzeug, das für die dünne, gleichmäßige Anwendung einer Vielzahl von...
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Deposition
Atomic Premium
Showerhead Thermischer ALD-Reaktor für 4 bis 12″ Wafer, bis zu 500°C (Plasma Prozess verfügbar)
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Deposition
Atomic Shell
Nano-Pulverbeschichtung ALD mit 100cc bis 500cc Reaktorvolumen, bis zu 300°C.
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Deposition, Deposition
Atomic Mega
Vertikalofen Batch ALD für bis zu 12″ Wafer (Boat mit bis zu 100 Wafern), bis zu...
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